出光透明電極材料 IZO®
次世代ディスプレイに向けた電極材料の提案
表面平滑性、エッチング特性に優れた非晶質透明導電膜形成用のターゲット材料を取り揃えました次世代ディスプレイに向けた新たなパターニングニーズへお応えいたします。
![[写真]透明導電材料](images/index_ph001.jpg)
透明導電材料は、液晶ディスプレイ(LCD)やEL素子の駆動用電極として必要不可欠な材料として使用されています。現在、LCDの大型化と高精細、高性能化に伴い、電極の加工性、プロセス温度の低温化、生産性の向上が求められています。当社の透明導電材料IZO®はこうした要求に応える優れた特性を有しています。低温製膜(室温)が可能で、耐熱性の低い基板へ製膜することができます。
製膜時の加熱・冷却工程が不要になり、生産性が向上します。また、弱酸でエッチング加工が可能なため、AI等の配線金属のダメージ低減に効果的です。ウェットエッチングでも、低テーパー角の電極加工ができ残渣等のエッチング不良を解消します。電極膜は完全な非晶質であるため、緻密で表面平滑性に優れた電極膜が得られ、上下電極び導通による電流リークを抑えることができます。
有機EL用電極に最適です
![[写真]表面状態 パターンニング例](images/index_ph002.jpg)
- 優れた表面平滑性を実現しました
→素子の均一発光に寄与します - ウエットエッチングにより低テーパー角を実現しました
→製造歩留まりの向上に寄与します - 素子の発光効率、発光輝度向上に寄与します
TFT用透明電極へ適用できます
![[図]TFT模式図](images/index_il001.gif)
- 低温製膜が可能です
→TFT素子へのダメージを低減します - 弱酸でのエッチングが可能です
→配線金属の腐食低減に効果的です - 残渣等のエッチング不良を解消します
IZO®ターゲットの特性
- 薄膜基礎物性
本ターゲットを用いた場合、緻密で安定な非晶質透明導電膜が得られます。特に、基板加熱を必要としないことから、樹脂等の耐熱性の低い基板への製膜に適します。
表1:IZO®ターゲットを用いて製膜した薄膜の基礎物性
IZO®/ガラス IZO®/PET 表面抵抗(Ω/□) 22 10 膜厚(Å) 1,400 4,000 抵抗率(Ω・cm) 3×10-4 4×10-4 透過率(%;at550nm) 86 77 耐熱性(R/Ro;90℃、1000H) 1.0 1.0 耐湿熱性(R/Ro;60℃、95%RH、1000H) 1.0 1.0 - 有機EL用途への応用例
本材料を有機EL用電極に用いた場合次の3つの効果が期待できます。
![[図]図1.電圧-輝度特性](images/index_il002.gif)
- 緻密で表面平滑性に優れた電極膜が得られるため、上下電極の導通による電流リークの心配がありません。
- 電極膜は完全な非晶質であるため、ウェットエッチングで均一な低テーパー角が得られます。
- 仕事関数が有機発光材料に近いため、発光時のエネルギー損失低減に効果的です。
- TFT画素電極への適用例
本材料をTFT液晶用電極に用いた場合次の2つの効果が期待できます。
![[図]図2.IZO膜のエッチング特性](images/index_il003.gif)
- 製膜時の加熱・冷却工程が不要なため、生産性の向上に寄与します。
- 電極膜は完全な非晶質であるため、弱酸でのエッチングが可能で、AI等の配線材料へのダメージ低減に効果的です。
※「IZO」は出光興産(株)の登録商標です。
